ОЦЕНКА ХАРАКТЕРИСТИК ОПТИЧЕСКИХ МУЛЬТИПЛЕКСОРОВ НА БАЗЕ ИНТЕРФЕРОМЕТРА МАХА–ЦЕНДЕРА ДЛЯ ВОЛОКОННЫХ СИСТЕМ С ПЛОТНЫМ СПЕКТРАЛЬНЫМ УПЛОТНИТЕЛЕМ
Аннотация:
We evaluate the three Mach-Zehnder interferometer (MZI) techniques of optical add drop multiplexer for DWDM system and investigate the impact of crosstalk obtained at 8 × 10 Gbps with 0.1 nm channel spacing. The Dense wavelength division multiplexing (DWDM) transmission with optical add drop multiplexer (OADM) placed at the 35 km point of a 70 km link has been demonstrated. It is also observed that Mach-Zehnder interferometer-Fiber Bragg Grating (MZI-FBG) based OADM and MZI based OADM provide better results with maximum covered distance (150 km) at channel spacing of 0.1 nm and bit rate of 10 Gbps without using Dispersion Compensating Fiber (DCF) and amplifier and the worst case is found with the Mach-Zehnder interferometer- Semiconductor optical amplifier (MZI-SOA) based OADM. It is also found that the MZI Based OADM is cost effective as compared to MZI-SOA and MZI- FBG Based OADM.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- ИЗМЕНЕНИЕ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ CVD–ZnSe ПРИ МЕХАНИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКЕ В ЗАВИСИМОСТИ ОТ РАЗМЕРА ЗЕРНА СУСПЕНЗИИ
- ИССЛЕДОВАНИЕ КИНЕТИКИ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ КРИСТАЛЛОВ КТР, ПРИМЕНЯЕМЫХ В МОДУЛЯТОРАХ ТВЕРДОТЕЛЬНЫХ ЛАЗЕРОВ
- ВЫБОР ОПТИМАЛЬНОЙ КОНСТРУКЦИИ ОПТИЧЕСКОГО ЗАТВОРА НА π-ЯЧЕЙКЕ
- ИЗМЕРЕНИЕ ИНСТРУМЕНТАЛЬНОЙ ПОЛЯРИЗАЦИИ, ВНОСИМОЙ КАТАДИОПТРИЧЕСКИМ ОБъЕКТИВОМ
- КОНЦЕПЦИЯ ПОСТРОЕНИЯ ОПТИЧЕСКОЙ СХЕМЫ ПАНОРАМНОГО СТОКС-ПОЛЯРИМЕТРА ДЛЯ МАЛЫХ ТЕЛЕСКОПОВ
- ВЫБОР РАДИУСА ИСТОЧНИКА В ФАЗОВОКОНТРАСТНОМ МЕТОДЕ ФОРМИРОВАНИЯ РЕНТГЕНОВСКИХ ИЗОБРАЖЕНИЙ
- АВТОКОЛЛИМАЦИОННЫЙ НУЛЬ-ИНДИКАТОР: РАЗРАБОТКА И ПРИМЕНЕНИЕ В ДИНАМИЧЕСКОЙ ГОНИОМЕТРИИ
- ОПТИЧЕСКИЙ ЦИФРОВОЙ АВТОМАТИЗИРОВАННЫЙ ИЗМЕРИТЕЛЬ ОТКЛОНЕНИЙ ОТ ПРЯМОЛИНЕЙНОСТИ
- ТЕЛЕВИЗИОННАЯ АППАРАТУРА ДЛЯ РАБОТЫ В УСЛОВИЯХ ВЫСОКИХ РАДИАЦИОННЫХ ПОЛЕЙ
- МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ РЕГИСТРИРУЕМЫХ СИГНАЛОВ В МЕДИЦИНСКОЙ ЛАЗЕРНОЙ НЕИНВАЗИВНОЙ ФЛЮОРЕСЦЕНТНОЙ ДИАГНОСТИКЕ
- СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ КРИТЕРИЕВ УСТОЙЧИВОСТИ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫХ ПОКРЫТИЙ
- НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА