НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА
Аннотация:
Предложен новый “сухой” метод формирования рисунка маски или любого друго- го рельефа в некоторых позитивных резистах путем прямого травления резиста непо- средственно в процессе экспонирования электронным лучом. Метод весьма эффекти- вен при формировании пространственных 3D структур и, по-видимому, может быть успешно использован в оптоэлектронике.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- ОЦЕНКА ХАРАКТЕРИСТИК ОПТИЧЕСКИХ МУЛЬТИПЛЕКСОРОВ НА БАЗЕ ИНТЕРФЕРОМЕТРА МАХА–ЦЕНДЕРА ДЛЯ ВОЛОКОННЫХ СИСТЕМ С ПЛОТНЫМ СПЕКТРАЛЬНЫМ УПЛОТНИТЕЛЕМ
- ИЗМЕНЕНИЕ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ CVD–ZnSe ПРИ МЕХАНИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКЕ В ЗАВИСИМОСТИ ОТ РАЗМЕРА ЗЕРНА СУСПЕНЗИИ
- ИССЛЕДОВАНИЕ КИНЕТИКИ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ КРИСТАЛЛОВ КТР, ПРИМЕНЯЕМЫХ В МОДУЛЯТОРАХ ТВЕРДОТЕЛЬНЫХ ЛАЗЕРОВ
- ВЫБОР ОПТИМАЛЬНОЙ КОНСТРУКЦИИ ОПТИЧЕСКОГО ЗАТВОРА НА π-ЯЧЕЙКЕ
- ИЗМЕРЕНИЕ ИНСТРУМЕНТАЛЬНОЙ ПОЛЯРИЗАЦИИ, ВНОСИМОЙ КАТАДИОПТРИЧЕСКИМ ОБъЕКТИВОМ
- КОНЦЕПЦИЯ ПОСТРОЕНИЯ ОПТИЧЕСКОЙ СХЕМЫ ПАНОРАМНОГО СТОКС-ПОЛЯРИМЕТРА ДЛЯ МАЛЫХ ТЕЛЕСКОПОВ
- ВЫБОР РАДИУСА ИСТОЧНИКА В ФАЗОВОКОНТРАСТНОМ МЕТОДЕ ФОРМИРОВАНИЯ РЕНТГЕНОВСКИХ ИЗОБРАЖЕНИЙ
- АВТОКОЛЛИМАЦИОННЫЙ НУЛЬ-ИНДИКАТОР: РАЗРАБОТКА И ПРИМЕНЕНИЕ В ДИНАМИЧЕСКОЙ ГОНИОМЕТРИИ
- ОПТИЧЕСКИЙ ЦИФРОВОЙ АВТОМАТИЗИРОВАННЫЙ ИЗМЕРИТЕЛЬ ОТКЛОНЕНИЙ ОТ ПРЯМОЛИНЕЙНОСТИ
- ТЕЛЕВИЗИОННАЯ АППАРАТУРА ДЛЯ РАБОТЫ В УСЛОВИЯХ ВЫСОКИХ РАДИАЦИОННЫХ ПОЛЕЙ
- МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ РЕГИСТРИРУЕМЫХ СИГНАЛОВ В МЕДИЦИНСКОЙ ЛАЗЕРНОЙ НЕИНВАЗИВНОЙ ФЛЮОРЕСЦЕНТНОЙ ДИАГНОСТИКЕ
- СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ КРИТЕРИЕВ УСТОЙЧИВОСТИ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫХ ПОКРЫТИЙ