<p>Модель лазерного окисления разработана еще в 1970-е гг., до появления лазеров,<br /> способных генерировать ультракороткие импульсы [1]. Эта модель основана на вагнеровском<br /> законе, учитывающем рост окисла только на поверхности. Согласно модели поверхностного<br /> окисления, воздействие ультракоротких лазерных импульсов не должно инициировать рост<br /> окисной пленки на поверхности металлов [2]. Однако, в экспериментах [3] было показано<br /> окисление металлических пленок при воздействии, как серии ультракоротких лазерных<br /> импульсов, так и одиночных импульсов. Поэтому появилась необходимость более детального<br /> изучения механизмов окисления ультракороткими лазерными импульсами. Выяснение<br /> механизма окисления металлических пленок под действием лазерного излучения позволит<br /> более эффективно использовать лазерный термохимический метод на производстве, и в<br /> частности усовершенствовать технологии изготовления дифракционных оптических<br /> элементов, увеличив их разрешающую способность.<br /> Цель исследования – выяснение механизма окисления тонких металлических пленок<br /> под действием ультракоротких лазерных импульсов.</p>