Журнал
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики
УДК:
Номер:5 (16)
Скачать PDF0 Кбайт
Обратные волны и отрицательная рефракция в электромагнитных кристаллах
Аннотация:
Данная работа представляет собой оригинальный детальный обзор и обсуждение обратных волн и отрицательной рефракции в фотонных кристаллах. Рассматриваются вопросы классификации прямых и обратных волн в линейных средах, а также связь этих понятий с эффектом рефракции на границе раздела кристаллической среды и изотропного диэлектрика. Освещена роль ориентации границы раздела по отношению к внутренней геометрии среды. Приведены элементарные примеры возможности существования эффекта отрицательной рефракции без обратной волны, а также обратной волны, которая не дает отрицательной рефракции. Приведены примеры эффектов отрицательной рефракции и возбуждения обратной волны в фотонных кристалах, не обладающих магнитными свойствами. Поэтому рассматриваемые эффекты могут наблюдаться в опттческом диапазоне частот.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Анализ рынка высших образовательных услуг
- Аппаратура космического патруля ионизирующего излучения Солнца
- Пути автоматизации контроля качества оптических поверхностей в реальном режиме времени
- Исследование нарушенных слоев полированной оптической поверхности и напряжений в клеевых и бесклеевых соединениях оптических элементов методом эллипсометрии
- Обобщенный анализ адекватности моделей оптико-физических явлений в природных и антропогенных объектах и информационных оптико- электронных системах спектрозонального мониторинга
- Обобщенный закон оптической шероховатости
- Системы управления мощных источников тока программируемой формы на основе транзисторных ШИП (принципы построения, анализ, синтез)
- Исследование и разработка новых методов компьютерного моделирования работы оптических систем
- Исследование принципов и разработка модели формирования оптической системой цветного изображения на матричных приёмниках
- Неразрушающие методы исследования стереометрии и внутренних дефектов оптического волокна для элементной базы микроэлектроники и микропроцессорной техники
- Анизотропия поглощения и люминесценции оптических центров в эрбиевых стеклах для усилителеи
- Разработка средств автоматизации построения объектно-ориентированных программ с явным выделением состоянии
- Дифракционная модель квазинепрерывного твердотельного лазера с продольной диодной накачкой и активной модуляцией добротности
- Методы сегментации изображений на основе анализа и модификации локальных гистограмм
- Анализ оптико-электронной системы обнаружения крупногабаритных объектов при их спектрозональной импульсной оптической локации в условиях инерционного приема с квазиоптимальной фильтрацией отраженных сигналов
- Исследование особенностей взаимодействия оптического излучения с элементами лазерных систем и биологическими объектами
- Применение фемтосекундного лазерного излучения для исследования спектральной селективности объемных голограмм
- Динамика поля и спектров световых импульсов предельно коротких длительностей в нелинейных средах
- Самофокусировка световых сгустков с продольными и поперечными размерами в несколько длин волн
- Исследование возможности диагностики качества мясных продуктов на основе спектров люминесценции
- Закономерности диффузии фазы одномодового мазера, обнаруживаемые в процессе квантовых измерении
- Современные объективные методы оценки параметров переднего отдела глаза
- Современные методы оптической коррекции сложных аномалий рефракции
- Исследование методов изготовления покрытий, создающих волновой фронт излучения для формирования лазерных пучков с предельной пространственной локализациеи
- Установка для измерения параметров мягких контактных линз в термостабилизированных условиях
- Формообразование плоских поверхностей методом поверхностного притира
- Исследование свойств плёнкообразующих материалов для ультрафиолетовой области спектра
- Асимптотический подход в исследовании свойств слабо связанных квантовых волноводах
- Роль плотности потока мощности (ППМ) и времени воздействия в выборе адекватных доз влияния ИК-излучения на одноклеточные организмы
- Метрологическое обеспечение контроля лучевой прочности оптических материалов.
- Аппаратные комплексы для измерения параметров нелинейности показателя преломления стекол и кристаллов