Предельные возможности интерференционной фотолитографии, реализуемой в видимой области спектра на тонких слоях халькогенидного стеклообразного полупроводника
Аннотация:
Приведены результаты исследования параметров структур (минимального периода следования элементов и скважности), получаемых под действием излучения аргонового лазера на тонких пленках халькогенидного стеклообразного полупроводника, нанесенных на слои рентгеноаморфного хрома. Показано, что экспонируемые излучением с длиной волны 0,488 мкм тонкие пленки трехкомпонентного стеклообразного полупроводника могут быть использованы в методе интерференционной фотолитографии для получения структур с минимальным периодом 260 нм и минимальным размером элемента структуры 65 нм. Установлена возможность уменьшения минимального размера элемента структуры до 50 нм при увеличении периода следования элементов до 600 нм за счет использования “двухмасочной” технологии интерференционной фотолитографии.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Предисловие выпускающих редакторов
- Взаимосвязь аберраций широкого пучка лучей
- Одно- и двухкомпонентные объективы, окуляры и конденсоры с асферическими поверхностями второго порядка
- Исследование исходных систем ортоскопических астрономических объективов в спектральном диапазоне 0,2—1 мкм
- Модульное проектирование зеркально-линзового объектива
- Аналитический метод оценки влияния конструктивных параметров на характеристики оптических систем
- Синтез силовых компонентов широкоугольных объективов
- Усовершенствованный универсальный метод габаритного расчета центрированных оптических систем
- Исследование способов дискретизации источника при моделировании фотолитографического изображения
- Разложение фотограмметрической дисторсии по ортогональным полиномам Цернике
- Использование программного комплекса ZEMAX для формирования фотометрических моделей светодиодных осветительных приборов
- Варианты композиции зеркально-линзового объектива на основе зеркальной системы объектива Грегори
- Компьютерное моделирование при изучении дисциплин, связанных с расчетом оптических систем
- Особенности расчета офтальмологических линз
- Юрий Михайлович Голубовский (к 80-летию со дня рождения)
- Судьбы оптики и Государственного оптического института (ГОИ) в России