Например, Бобцов

ФОРМИРОВАНИЕ МОРФОЛОГИИ СИСТЕМЫ SiO2/Si ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИЗЛУЧЕНИЯ ЭКСИМЕРНОГО ЛАЗЕРА

Аннотация:

Рассмотрен процесс формирования микро- и наномасштабных периодических структур на поверхности системы SiO2/Si под действием наносекундных лазерных импульсов. При облучении экспериментальных образцов получены волнообразные периодические структуры на поверхности. Исследована зависимость топологии поверхности системы SiO2/Si от плотности энергии лазерного импульса.

Ключевые слова:

Статьи в номере